香港开发出可自清洗的服装

香港理工学院的研究人员开发除一周化学涂布，这预示着自清洗服装的出世。 据报道，这种涂布能够暴露在阳光下能够消除灰尘，这种涂布包含了众多二氧化钛微粒。这些微粒的直径小于20纳米，大约是人类头发直接的1/2500，帮助毁掉污处的碳分子。 这项研究是香港理工学院的研究员Walid Daoud和约翰.辛承担的。